3、構(gòu)造表現(xiàn)結(jié)果
(1)透射電鏡剖析
圖五分別為變大一萬(wàn)倍和十萬(wàn)倍的CTS/MMT透射電鏡圖。由圖得知,殼聚糖呈塊狀層疊、打卷在蒙脫土的表層,其遍布較為勻稱(chēng),CTS/MMT復(fù)合材質(zhì)的外表較為松散,仍具備多孔材料。
(2)傅立葉紅外線(xiàn)定量分析
圖6為CTS/MMT原材料的紅外光譜圖。從圖上能夠看得出,CTS/MMT在1420cm-1處-CH2的C-H形變震動(dòng)消化吸收峰和1445cm-1處-CH3的C-H形變震動(dòng),及其在1565cm-1和1610cm-1處產(chǎn)生的N-H伸縮式振蕩峰,均歸屬于殼聚糖的特點(diǎn)峰;在3630cm-1處的AI-O-H伸縮式振蕩峰,及其在515cm-1、795cm-1、910cm-1等處的震動(dòng)峰,均所屬鈣基蒙脫土的特點(diǎn)峰。因?yàn)楸砻鰿TS/MMT復(fù)合材質(zhì)兼顧蒙脫土和殼聚糖的特點(diǎn)。
(3)X射線(xiàn)衍射剖析
圖7為CTS/MMT原材料的X射線(xiàn)衍射圖。由圖能夠 看得出,蒙脫土仍維持比較詳細(xì)的分子結(jié)構(gòu),CTS/MMT在2θ=7.064°處發(fā)生透射峰(蒙脫土構(gòu)造的001峰),由布拉格方程測(cè)算獲得其層間隔為1.25nm,比照參考文獻(xiàn)獲知:改性材料所得的CTS/MMT的層間隔并沒(méi)有擴(kuò)張,絕大多數(shù)的殼聚糖沒(méi)有進(jìn)到固層,只是負(fù)荷于蒙脫土的外表上,這,可能是因?yàn)榉从吃牧蠚ぞ厶堑暮窟^(guò)大,難以進(jìn)到蒙脫土固層。
(4)熱失重剖析
圖8各自為CTS、MMT、CTS/MMT三種原材料的熱重分析曲線(xiàn)圖。從圖上a線(xiàn)能夠 看得出蒙脫土的失凈重不大,僅在氣溫做到600℃后才有小量失重狀態(tài),至800℃時(shí)總失重狀態(tài)率約為6%,表明蒙脫土的耐熱性非常好;從c線(xiàn)能夠 看得出殼聚糖在105℃以前,因喪失內(nèi)腔內(nèi)的束縛水而發(fā)生輕度的失重狀態(tài);在200℃~370℃、400℃~570℃發(fā)生了比較嚴(yán)重的失重狀態(tài),主要是發(fā)生了分解反應(yīng),殼聚糖分子結(jié)構(gòu)中的C-N、C-C離子鍵出現(xiàn)破裂并以小分子水的方式釋放出來(lái),至800℃時(shí)總失重狀態(tài)率達(dá)98.39%;從b線(xiàn)能夠 顯著看得出復(fù)合型回應(yīng)劑的失重狀態(tài)率處于殼聚糖與蒙脫土中間,伴隨著氣溫的上升,失凈重逐步提升,關(guān)鍵為殼聚糖等有機(jī)高分子的燒失,表明殼聚糖取得成功負(fù)荷在蒙脫土上。由圖得知,CTS/MMT總失重狀態(tài)率是30.9%,經(jīng)測(cè)算可獲得在105℃~800℃區(qū)段CTS/MMT失重狀態(tài)率是28%,即是殼聚糖在蒙脫土上的承載量;此值低于基礎(chǔ)理論測(cè)算值(38.46%),表明在復(fù)合型改性材料全過(guò)程中也許有一部分殼聚糖產(chǎn)生化學(xué)降解而外流。
三、結(jié)果
以殼聚糖(CTS)、蒙脫土(MMT)為原材料根據(jù)復(fù)合型改性材料制取CTS/MMT復(fù)合材質(zhì),并用以糖汁回應(yīng)褪色,以糖汁褪色實(shí)際效果做為認(rèn)證指標(biāo)值,各自調(diào)查CTS/MMT的配制加工工藝前提對(duì)糖汁褪色率的干擾規(guī)律性,并選用正交實(shí)驗(yàn)進(jìn)一步提升CTS/MMT的配制加工工藝,得到最優(yōu)控制標(biāo)準(zhǔn)為:溫度在40℃、反應(yīng)速度4h、殼聚糖的劑量為2.5g、甲酸濃度值為1.5%;危害褪色作用的層次要素次序?yàn)椋悍磻?yīng)速度>甲酸濃度值>殼聚糖的使用量>反映溫度。根據(jù)透射電鏡、紅外光譜分析、X射線(xiàn)衍射和熱失重剖析對(duì)CTS/MMT開(kāi)展構(gòu)造表現(xiàn),得知?dú)ぞ厶且讶〉贸晒ω?fù)荷于蒙脫土表層,但進(jìn)到固層較少,CTS/MMT兼顧蒙脫土和殼聚糖的特點(diǎn),且依然維持蒙脫土的多孔材料;依據(jù)CTS/MMT熱失重率數(shù)據(jù)信息測(cè)算可獲得殼聚糖承載量為28%。這種均可為無(wú)硫、超低溫、高效率的糖用回應(yīng)吸收劑及回應(yīng)加工工藝的研發(fā)給予理論基礎(chǔ)。